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2018
PVD镀膜先进专用涂装膜层设备
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
DLC镀膜工艺镀层外表高速流动
DLC涂层真空镀膜机制备的DLC涂层(类金刚石涂层)，具备质量稳定，与基体结合力好，耐磨性好，摩擦系数低，耐腐蚀性好等综合优良性能。DLC镀膜一般选用主盐浓度高的镀液，DLC镀膜要选用高速的工艺规范。DLC镀膜有时还加入能提高镀速的添加剂，提高镀液温度，DLC镀膜同时常采用脉冲电源。当然也可选用惯例DLC镀膜规范，但镀速受到限制。
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真空镀膜机非均匀环境下的真空测量
真空镀膜机，镀膜机在实际真空系统中，存在着从气源流向泵的气流，这些气源有的是经过漏孔注入的气流，也有的是由于各种出气效应造成的气流。不仅各种真空泵可以抽除气体，而且真空规和清洁表面也有吸附气体作用。因此，实际的真空系统中气流分布通常是不均匀的。流经管状导管的气体会被管子聚束，导致流入容器的气流分布更不均匀。真空系统中稀薄气流非均匀分布的影响，已成为近年来详加研究的课题，而这些研究结果则又促进了精确
真空镀膜机ITO薄膜制作的影响因素
ITO薄膜在溅镀过程中会产生不同的特性，有时候表面光洁度比较低，出现“麻点”的现象，有时候会出现高蚀间隔带，在蚀刻时还会出现直线放射型缺划或电阻偏高带，有时候会出现微晶沟缝。各种特性的产生一般取决于靶材和玻璃的选用，溅镀时所使用的温度和运动方式。
光学膜材料科普
主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小;采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。
真空系统专业术语
1、真空系统vacuum system：由真空容器和产生真空、测量真空、控制真空等的组件组成。1.1、真空机组pump system：由产生真空、测量真空和控制真空等的组件组成。1.2、有油真空机组pump system used oil ：用油作工作液或用有机材料密封的真空机组。1.3、无油真空机组oil free pump system：不用油作工作液和不用有机材料密封的真空机组。
霍尔离子源介绍
霍尔源有多种类型.END-HALL源由于结构简单,是目前广泛应用的一种.但究其源,是来源于俄罗斯开发用于空间电推进-(Electric Propulsion)离子源SPT的改型.最初原型见照片.现型END-HALL源其特点是结构简单,低能宽束大束流,东方安泰克1999年研发了国内第一台商用的霍尔离子源，并在光学镀膜行业取得运用 。
真空镀膜机在塑料制品中的应用
塑料制品表面金属化之后，真空镀膜机在塑料制品中的应用范围将会更广泛，塑料件表面的真空镀膜可分成功能性镀膜和装饰性镀膜。作为功能性镀膜，它可以改善塑料件表面物理、化学性质，比如可以提高塑料件的尺寸稳定性和导电性等等;作为装饰性镀膜，可以是塑料件表面具备金属光泽并可以根据实际装饰所需，制作出不同颜色，如金黄色、古铜色、金属红色、金属绿色、金属蓝色等。
